影響掃描電鏡分辨率的主要因素

　　掃描電鏡主要是針對高度差大的問題、觀察到粗糙且不均勻的厚樣品，因此在設計中突出了景深效果，一般用於分析未經過人工處理的裂縫和自然表麵。掃描電鏡的主要特點如下：
　　1）可以直接觀察大尺寸樣品的原始表麵；
　　2）樣品室中樣品的自由度非常大；
　　3）觀察的視場大；
　　4）圖像的景深大，立體感強；
　　5）對於厚樣品可以獲得高分辨率圖像；
　　6）輻照對樣品表麵的汙染很小；
　　7）能夠動態觀察（如動態拉伸、壓縮、彎曲、升降溫等）；
　　8）可以獲得對應於形態學的各種信息；
　　9）在不犧牲掃描電鏡特性的情況下，擴展附加功能，如微區成分和晶體學分析。
　　影響掃描電鏡分辨率的主要因素是：
　　A.入射電子束光斑直徑：一般來說，熱陰極電子槍的最小束斑直徑可以減小到6nm，場發射電子槍的束斑直徑可以小於3nm。
　　B.入射電子束在樣品中的膨脹效應：擴散的程度取決於入射電子的能量和樣品的原子序數束流能量越高，樣品的原子序數越小，電子束的相互作用體積越大，信號產生麵積隨著電子束的擴散而增大，從而降低分辨率。
　　C.使用的成像模式和調製信號：當二次電子被用作調製信號時，由於它們的低能量（小於50ev），平均自由程短（大約10～100納米），隻有表麵50-隻有100nm範圍內的二次電子能從樣品表麵逸出，散射次數非常有限，基本不延伸到側麵，所以二次電子圖像的分辨率約等於束斑直徑.當反向散射的電子被用作調製信號時，由於它們的高能量、穿透力強，能從樣品深處逃逸（大約30的有效效果％深度）在深度範圍內，入射電子橫向擴散，因此背散射電子像的分辨率低於二次電子像，一般在500-大約2000納米。如果將吸收電子、x射線、陰極發光、在其他工作模式下，束感應電導或電勢用作調製信號由於信號來自整個電子束散射區域，掃描圖像的分辨率相對較低，一般在1000nm10000nm之間。